刻蚀机和光刻机是两种不同的设备，用于不同的制程步骤。光刻机是一种用于制造半导体器件的设备，它使用光学投影系统将图形或模式投影在敏感的光刻胶层上，然后通过化学处理形成图形或结构。光刻机的主要功能是将光源投射到光刻胶层上，并使用光刻遮罩对光斑进行精确控制，以制造芯片上的微小图形和结构。因此，尽管刻蚀机和光刻机在半导体制造过程中都扮演重要的角色，但它们的功能和操作原理是不同的。
刻蚀机和光刻机是两种不同的设备，用于不同的制程步骤。
刻蚀机（Etching Machine）是一种用于制造半导体器件的设备，其主要功能是通过化学腐蚀或物理腐蚀的方式，将物质从材料表面去除，以实现图形和结构的定义。刻蚀机通常用于蚀刻（etching）或降解掉表面材料，以形成所需的线路或结构。
光刻机（Lithography Machine）是一种用于制造半导体器件的设备，它使用光学投影系统将图形或模式投影在敏感的光刻胶（或称为光阻）层上，然后通过化学处理形成图形或结构。光刻机的主要功能是将光源投射到光刻胶层上，并使用光刻遮罩（Photomask）对光斑进行精确控制，以制造芯片上的微小图形和结构。
因此，尽管刻蚀机和光刻机在半导体制造过程中都扮演重要的角色，但它们的功能和操作原理是不同的。
