而中国目前正在研发EUV光刻机，并且已经研制成功一台。截至2021年，中国的EUV光刻机研发项目由中国科学院微电子研究所和中国电子科技集团公司等单位合作进行。据报道，该光刻机于2020年实现了44纳米的芯片制造并获得成功。总的来说，虽然中国目前只有一台自主研发的EUV光刻机，但中国在该领域的发展势头良好，并有望在不久的将来取得更大的突破和进展。
DUV光刻机可以生产65nm至7nm的芯片。而中国目前正在研发EUV光刻机，并且已经研制成功一台。
截至2021年，中国的EUV光刻机研发项目由中国科学院微电子研究所和中国电子科技集团公司等单位合作进行。该EUV光刻机是中国目前唯一一台自主研发的EUV光刻机。据报道，该光刻机于2020年实现了44纳米的芯片制造并获得成功。
中国对EUV光刻机的研发十分重视，并将其视为中国半导体产业的重要突破口。目前，中国正在加快推进EUV光刻机产业化进程，并计划在未来几年内建设第一条EUV光刻机生产线。
总的来说，虽然中国目前只有一台自主研发的EUV光刻机，但中国在该领域的发展势头良好，并有望在不久的将来取得更大的突破和进展。
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